Messsystem zur Verwendung mit einem Hohlraum zur Lichtverstärkung
EP3997518
Art A1
18. Mai 2022
Anmelder: ASML Netherlands B.V., TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE, TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3997518
- Aktenzeichen
- EP20731081
- Anmeldetag
- 9. Juni 2020
- Veröffentlichung
- 18. Mai 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20B23K26/04G01J1/42H01S3/13H01S3/139H01S3/223H05G2/00G02B3/10G02C7/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE
TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven