Bestrahlungspläne für Maschinen zur Generativen Fertigung
EP4000774
Art A1
25. Mai 2022
Anmelder: General Electric Company, Concept Laser GmbH 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4000774
- Aktenzeichen
- EP21197672
- Anmeldetag
- 20. September 2021
- Veröffentlichung
- 25. Mai 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B22F10/28B22F10/36B22F10/366B33Y10/00B33Y50/02B29C64/135B29C64/153B29C64/268B29C64/277
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- General Electric Company
Concept Laser GmbH - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
General Electric
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Massachusetts. Historisch aktiv in Energieerzeugung, Luftfahrttriebwerken, Medizintechnik und Industrietechnik über verschiedene Geschäftsbereiche.
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Vertreten von
-
Hafner & Kohl PartmbB
Hafner & Kohl PartmbB · Nürnberg