Bestrahlungspläne für Maschinen zur Generativen Fertigung

EP4000774 Art A1 25. Mai 2022

Anmelder: General Electric Company, Concept Laser GmbH 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4000774
Aktenzeichen
EP21197672
Anmeldetag
20. September 2021
Veröffentlichung
25. Mai 2022
Rechtsraum
EP
IPC
B22F10/28B22F10/36B22F10/366B33Y10/00B33Y50/02B29C64/135B29C64/153B29C64/268B29C64/277
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
General Electric Company
Concept Laser GmbH
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 General Electric

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Massachusetts. Historisch aktiv in Energieerzeugung, Luftfahrttriebwerken, Medizintechnik und Industrietechnik über verschiedene Geschäftsbereiche.

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