Objektivlinsengruppenanordnung, Elektronenoptisches System, Elektronenoptisches Systemarray, Verfahren zur Fokussierung

EP4002421 Art A1 25. Mai 2022

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4002421
Aktenzeichen: EP20207178
Anmeldetag: 12. November 2020
Veröffentlichung: 25. Mai 2022
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/28H01J37/12H01J37/153

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von