Verfahren zur Herstellung einer Quantenvorrichtung

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP4006997

Aktenzeichen

EP21209987

Anmeldetag

23. November 2021

Veröffentlichung

25. Oktober 2023

Erteilung

25. Oktober 2023

Rechtsraum

EP

IPC

H10N60/01H10N60/10G06N10/00

Abstract

L'invention concerne un procédé de réalisation d'un dispositif quantique comprenant les étapes suivantes :- Fournir (100) un substrat (1) présentant une face avant (101) et portant au moins un motif de transistor (2) sur sa face avant (101),Ledit motif de transistor (2) comprenant, en empilement :• un diélectrique de grille (21) sur la face avant (101) du substrat (1),• une grille (22a) sur le diélectrique de grille (21), ladite grille (22a) présentant un sommet et des flancs (221),- Former (110) une couche de protection (111, 112) au niveau de la face avant (101) du substrat (1), ladite couche de protection (111, 112) étant configurée pour empêcher une diffusion d'au moins une espèce métallique dans le substrat (1),- Former (120) une couche métallique (50) à base d'au moins une espèce métallique au moins sur les flancs (221) de la grille (22a), ladite au moins une espèce métallique comprenant au moins un élément supraconducteur,- Former (130) une région (22b) supraconductrice dans la grille (22a), par diffusion latérale de l'au moins un élément supraconducteur à partir des flancs (221) de ladite grille (22a).

Anmelder

Firma

Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives

Land

🇫🇷 Frankreich

Fachgebiete