Verfahren zur Herstellung eines Pellikels für die Extrem-Uv-Lithographie mit einer Graphendefektheilungsschicht

EP4009104 Art A1 8. Juni 2022

Anmelder: Korea Electronics Technology Institute 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4009104
Aktenzeichen: EP21211956
Anmeldetag: 2. Dezember 2021
Veröffentlichung: 8. Juni 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/62B01J23/00C01B32/184

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Electronics Technology Institute
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Electronics Technology Institute

Staatlich gefördertes südkoreanisches Forschungsinstitut für Elektronik- und IT-Technologien mit Sitz in Seongnam, das Unternehmen bei Entwicklung und Kommerzialisierung neuer Technologien unterstützt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von