Verfahren zur Steuerung einer Lithographischen Vorrichtung

EP4018263 Art B1 30. August 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4018263
Aktenzeichen: EP20740656
Anmeldetag: 22. Juli 2020
Veröffentlichung: 30. August 2023
Erteilung: 30. August 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von