Vorrichtung zur Hochschnellen Erfassung von Hf-Signalen von Hf-Plasmabearbeitungsausrüstung

EP4020521 Art A1 29. Juni 2022

Anmelder: Applied Materials, Inc., Impedans Ltd 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4020521
Aktenzeichen: EP21216201
Anmeldetag: 21. Dezember 2021
Veröffentlichung: 29. Juni 2022
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Applied Materials, Inc.
Impedans Ltd
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

6.825 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von