Verfahren zur Vorhersage eines Metrologieversatzes eines Halbleiterherstellungsprozesses

EP4050328 Art A1 31. August 2022

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4050328
Aktenzeichen: EP21159169
Anmeldetag: 25. Februar 2021
Veröffentlichung: 31. August 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G01N21/956G03F7/20G05B19/418G06N20/00H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung Steuerungs- & Regelungstechnik

Vertreten von