System zur Inspektion und Erdung einer Maske in einem Geladenen Teilchensystem

EP4052277 Art A1 7. September 2022

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4052277
Aktenzeichen: EP20797426
Anmeldetag: 21. Oktober 2020
Veröffentlichung: 7. September 2022
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/20H01J37/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von