Verfahren zur Tieftemperaturtrennung anhand einer Nanoverbundbeschichtung auf der Basis von 2D

EP4054746 Art A1 14. September 2022

Anmelder: National University of Singapore 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4054746
Aktenzeichen: EP20884443
Anmeldetag: 2. November 2020
Veröffentlichung: 14. September 2022
Rechtsraum: EP
IPC: B01D69/14B01D61/36B01D71/02B01D71/10B01D71/08B01D71/38B01D69/12B01D69/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: National University of Singapore
Land: 🇸🇬 Singapur

🇸🇬 National University of Singapore

Staatliche Universität in Singapur, eine der größten und international bestbewerteten Hochschulen Asiens. Sie ist in Forschung und Lehre breit aufgestellt, mit starken Ingenieur- und Naturwissenschaftsfakultäten.

1.152 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von