Verfahren zum Herstellen von Halbleiterscheiben mit Epitaktischer Schicht in einer Kammer eines Abscheidereaktors
EP4056740
Art A1
14. September 2022
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4056740
- Aktenzeichen
- EP21161684
- Anmeldetag
- 10. März 2021
- Veröffentlichung
- 14. September 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B25/08C30B29/06C23C16/44C23C16/24C30B25/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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