Gate-Kontaktstruktur für Graben-Mosfet mit Geteilter Gate-Konfiguration

EP4071826 Art A1 12. Oktober 2022

Anmelder: STMicroelectronics Pte Ltd. 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4071826
Aktenzeichen
EP22166429
Anmeldetag
4. April 2022
Veröffentlichung
12. Oktober 2022
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/423H01L29/78H01L29/06// H01L29/40
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
STMicroelectronics Pte Ltd.
Land
🇸🇬 Singapur
🇨🇭 STMicroelectronics International

Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.

4.265 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen