Verfahren zur Herstellung eines Substrathalters für eine Lithografische Vorrichtung, Substrattisch, Lithografischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, Verfahren zur Herstellung

EP4073589 Art A1 19. Oktober 2022

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4073589
Aktenzeichen: EP20808421
Anmeldetag: 20. November 2020
Veröffentlichung: 19. Oktober 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von