Substratverarbeitungsverfahren und Substratverarbeitungsvorrichtung

EP4079445 Art A1 26. Oktober 2022

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4079445
Aktenzeichen: EP20905166
Anmeldetag: 9. Dezember 2020
Veröffentlichung: 26. Oktober 2022
Rechtsraum: EP
IPC: B23K26/18B23K26/57H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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