Spiegel zur Durchführung von Metrologie in einem Laserstrahlsystem, Laserstrahlsystem, Euv-Strahlungsquelle und Lithografievorrichtung

EP4080286 Art A1 26. Oktober 2022

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4080286
Aktenzeichen: EP21169691
Anmeldetag: 21. April 2021
Veröffentlichung: 26. Oktober 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G01J1/42G02B5/08H01S3/00H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von