Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung einer Luftbildsimulation einer Fotolithografischen Maske
EP4081865
Art A1
2. November 2022
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMS Ltd. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4081865
- Aktenzeichen
- EP21707943
- Anmeldetag
- 23. Februar 2021
- Veröffentlichung
- 2. November 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F1/70G03F1/72G03F1/84G03F1/68
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMS Ltd. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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