Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung einer Luftbildsimulation einer Fotolithografischen Maske

EP4081865 Art A1 2. November 2022

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMS Ltd. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4081865
Aktenzeichen
EP21707943
Anmeldetag
23. Februar 2021
Veröffentlichung
2. November 2022
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G03F1/70G03F1/72G03F1/84G03F1/68
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMS Ltd.
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen