Lithografisches System mit einer Ablenkvorrichtung zum Ändern einer Flugbahn von Teilchenförmigem Schutt

EP4094125 Art A1 30. November 2022

Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4094125
Aktenzeichen: EP20838574
Anmeldetag: 24. Dezember 2020
Veröffentlichung: 30. November 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Holding N.V.
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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