Hybride Photoresistzusammensetzung für Extrem Ultraviolette Photolithografieanwendungen

EP4095604 Art A1 30. November 2022

Anmelder: Stichting Nederlandse Wetenschappelijk Onderzoek Instituten, Universiteit van Amsterdam, Nippon Shokubai Co., Ltd., ASML Netherlands B.V., Stichting VU 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4095604
Aktenzeichen: EP21176454
Anmeldetag: 28. Mai 2021
Veröffentlichung: 30. November 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Stichting Nederlandse Wetenschappelijk Onderzoek Instituten
Universiteit van Amsterdam
Nippon Shokubai Co., Ltd.
ASML Netherlands B.V.
Stichting VU
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇯🇵 Nippon Shokubai

Japanisches Chemieunternehmen, das unter anderem Acrylsäure, Superabsorber und Katalysatoren für die Industrie produziert.

1.160 Patente in unserer Datenbank

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von