Behandlungen nach der Anwendung/belichtung zur Verbesserung der Trockenentwicklungsleistung von Metallhaltigem Euv-Resist

EP4100793 Art A1 14. Dezember 2022

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4100793
Aktenzeichen: EP21751164
Anmeldetag: 29. Januar 2021
Veröffentlichung: 14. Dezember 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/38G03F7/36G03F7/16H01L21/027G03F7/004G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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