Substrattisch und Verfahren zur Handhabung eines Substrats

EP4107582 Art A1 28. Dezember 2022

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4107582
Aktenzeichen: EP21700951
Anmeldetag: 20. Januar 2021
Veröffentlichung: 28. Dezember 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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