Sputterreaktionskammer-Verarbeitungskomponente und Sputterreaktionskammer

EP4108802 Art B1 12. November 2025

Anmelder: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4108802
Aktenzeichen
EP21745038
Anmeldetag
13. Januar 2021
Veröffentlichung
12. November 2025
Erteilung
12. November 2025
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/34C23C14/54C23C14/50H01J37/34H01J37/32
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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