Substrat Unterstützung und Substrattisch

EP4111261 Art B1 23. April 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4111261
Aktenzeichen: EP21701136
Anmeldetag: 25. Januar 2021
Veröffentlichung: 23. April 2025
Erteilung: 23. April 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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