Systeme und Verfahren zur Korrektur der Auswirkung von Waferneigung auf Fehlregistrierungsmessungen
EP4111492
Art A1
4. Januar 2023
Anmelder: KLA Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4111492
- Aktenzeichen
- EP20930091
- Anmeldetag
- 5. April 2020
- Veröffentlichung
- 4. Januar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/66G01B11/27G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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