Ausrichtung von Energiestrahlen in Generativen Fertigungssystemen und Maschinen

EP4112277 Art B1 7. August 2024

Anmelder: General Electric Company, Concept Laser GmbH 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4112277
Aktenzeichen: EP22178646
Anmeldetag: 13. Juni 2022
Veröffentlichung: 7. August 2024
Erteilung: 7. August 2024
Rechtsraum: EP
IPC: B29C64/153H01S3/00H01S5/00G02B27/28B23K26/067B22F12/90B22F12/45B22F12/44B22F10/31B22F10/28B33Y50/02B33Y30/00B33Y10/00B29C64/393B29C64/268B23K26/042B23K26/342G02B27/10G02B27/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: General Electric Company
Concept Laser GmbH
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 General Electric

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Massachusetts. Historisch aktiv in Energieerzeugung, Luftfahrttriebwerken, Medizintechnik und Industrietechnik über verschiedene Geschäftsbereiche.

15.498 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von