Trockenätzverfahren, Herstellungsverfahren für Halbleiterelement und Reinigungsverfahren

EP4113582 Art A1 4. Januar 2023

Anmelder: Resonac Corporation, Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4113582
Aktenzeichen: EP21760896
Anmeldetag: 8. Februar 2021
Veröffentlichung: 4. Januar 2023
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/311H01L21/3213H01L31/18H01L21/67C23F1/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Resonac Corporation
Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

794 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

2.327 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von