Verfahren zum Modellieren von Systemen für die Vorausschauende Wartung von Systemen, Wie Lithografischen Systemen

EP4115241 Art A1 11. Januar 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4115241
Aktenzeichen: EP21702283
Anmeldetag: 4. Februar 2021
Veröffentlichung: 11. Januar 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G05B23/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik

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