Abdruckform, Verfahren zum Herstellen Derselben und Verfahren zum Herstellen einer Reproduzierten Abdruckform

EP4116769 Art A1 11. Januar 2023

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Tohoku University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4116769
Aktenzeichen: EP22182763
Anmeldetag: 4. Juli 2022
Veröffentlichung: 11. Januar 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Tohoku University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.656 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

2.161 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von