Substratbehandlungsvorrichtung, Herstellungsverfahren für ein Halbleiternauelement, Substratbehandlungsverfahren und Programm
EP4117391
Art A1
11. Januar 2023
Anmelder: Kokusai Electric Corp. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4117391
- Aktenzeichen
- EP21763952
- Anmeldetag
- 26. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 11. Januar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/44C23C16/455C23C16/52H01L21/31H01L21/318H01L21/67H01L21/02H01B1/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kokusai Electric Corp.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kokusai Electric
Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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