Cu-Ni-Si-Kupferlegierungsplatte, Filmplattierte Cu-Ni-Si-Kupferlegierungsplatte und Herstellungsverfahren für Cu-Ni-Si-Kupferlegierungsplatte und Filmplattierte Cu-Ni-Si-Kupferlegierungsplatte
EP4123043
Art A1
25. Januar 2023
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4123043
- Aktenzeichen
- EP21770856
- Anmeldetag
- 12. März 2021
- Veröffentlichung
- 25. Januar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C22C9/06C22F1/00C22F1/08B32B15/01C25D3/22C25D3/30C25D3/38C25D3/46C25D3/48C25D3/50C25D5/10C25D5/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Materials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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