Verfahren zum Herstellen einer Lichtablenkungsstruktur, Verwendung eines Substrats mit einer Solchen Lichtablenkungsstruktur, und Lichtablenkeinheit mit einer Solchen Lichtablenkungsstruktur

EP4126436 Art B1 18. Dezember 2024

Anmelder: TRUMPF Laser- und Systemtechnik SE, Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4126436
Aktenzeichen: EP21716073
Anmeldetag: 23. März 2021
Veröffentlichung: 18. Dezember 2024
Erteilung: 18. Dezember 2024
Rechtsraum: EP
IPC: B23K26/00B23K26/0622B23K26/352B23K26/53B23K103/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: TRUMPF Laser- und Systemtechnik SE
Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Trumpf Laser- und Systemtechnik

Der Anmelder ist eine deutsche Gesellschaft des Maschinenbaukonzerns Trumpf mit Fokus auf Lasertechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Fertigungs- und Drucktechnik, ergänzt durch Kunststofftechnik, Optik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

440 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von