System und Verfahren für Wiederholte Metallabscheidungs-Entnetzungsschritte zur Formung einer Nanopartikelätzmaske zur Herstellung einer Dicken Schicht mit Gravierter Metaoberfläche
EP4127267
Art A1
8. Februar 2023
Anmelder: Lawrence Livermore National Security, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4127267
- Aktenzeichen
- EP21804291
- Anmeldetag
- 14. Mai 2021
- Veröffentlichung
- 8. Februar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23F1/02C23F4/00C23F1/08C23C28/02G02B1/00G02B3/00C23C14/58G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Lawrence Livermore National Security, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lawrence Livermore National Security
Lawrence Livermore National Security ist die Betreibergesellschaft des Lawrence Livermore National Laboratory, eines US-Forschungslabors für nationale Sicherheit und Energie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Fertigungstechnik, ergänzt durch Optik und Messtechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2002 bis 2025.
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