Differenzialmesssystem

EP4133335 Art B1 18. Juni 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4133335
Aktenzeichen: EP21709440
Anmeldetag: 9. März 2021
Veröffentlichung: 18. Juni 2025
Erteilung: 18. Juni 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00G01F1/06G01F1/86G01M3/32G01M3/38

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von