Seed-Lasersystem für Strahlungsquelle
EP4133557
Art A1
15. Februar 2023
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4133557
- Aktenzeichen
- EP21711829
- Anmeldetag
- 10. März 2021
- Veröffentlichung
- 15. Februar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01S3/23H01S3/223H01S3/00H01S3/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven