Verfahren zur Modellierung von Messdaten über eine Substratfläche und Zugehörige Vorrichtungen

EP4134745 Art A1 15. Februar 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4134745
Aktenzeichen: EP21191008
Anmeldetag: 12. August 2021
Veröffentlichung: 15. Februar 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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