Verfahren zur Herstellung eines Substratwafers zum Darauf Erstellen von Gruppe-Iii-V-Vorrichtungen und Substratwafer zum Darauf Erstellen von Gruppe-Iii-V-Vorrichtungen
EP4135006
Art A1
15. Februar 2023
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4135006
- Aktenzeichen
- EP21191332
- Anmeldetag
- 13. August 2021
- Veröffentlichung
- 15. Februar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/306H01L21/3065H01L21/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
281 Patente in unserer Datenbank