Verfahren zur Herstellung einer Epitaktisch Beschichteten Hableiterscheibe aus Einkristallinem Silizium
EP4137613
Art A1
22. Februar 2023
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4137613
- Aktenzeichen
- EP21191891
- Anmeldetag
- 18. August 2021
- Veröffentlichung
- 22. Februar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B15/20C30B15/30C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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