Verfahren zum Betreiben einer Euv-Lithographievorrichtung und Euv-Lithographievorrichtung

EP4139750 Art A1 1. März 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4139750
Aktenzeichen: EP21720436
Anmeldetag: 19. April 2021
Veröffentlichung: 1. März 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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