Halbleiterbauelement mit einer Ni-Haltigen Schicht und Verfahren zur Herstellung davon
EP4140635
Art A1
1. März 2023
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4140635
- Aktenzeichen
- EP21193956
- Anmeldetag
- 31. August 2021
- Veröffentlichung
- 1. März 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B23K35/26H01L23/00H01L23/373H01L23/495
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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