Verfahren zum Herstellen eines Kapazitiven Drucksensors und Kapazitiver Drucksensor

EP4140942 Art B1 4. März 2026

Anmelder: STMicroelectronics S.r.l. 🇮🇹

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4140942
Aktenzeichen
EP22190178
Anmeldetag
12. August 2022
Veröffentlichung
4. März 2026
Erteilung
4. März 2026
Rechtsraum
EP
IPC
B81C1/00
Offizieller Volltext

Abstract

Method for manufacturing a micro-electro-mechanical device (30; 30'), comprising the steps of: forming, on a substrate (2), a first protection layer (5) of crystallized aluminum oxide, impermeable to HF; forming, on the first protection layer (5), a sacrificial layer (8, 8') of silicon oxide removable with HF; forming, on the sacrificial layer (8, 8'), a second protection layer (15) of crystallized aluminum oxide; exposing a sacrificial portion (8') of the sacrificial layer (8, 8'); forming, on the sacrificial portion (8'), a first membrane layer (20) of a porous material, permeable to HF; forming a cavity (22) by removing the sacrificial portion (8') through the first membrane layer (20); and sealing pores of the first membrane layer (20) by forming a second membrane layer (24) on the first membrane layer (20).

Anmelder

Firma
STMicroelectronics S.r.l.
Land
🇮🇹 Italien
🇮🇹 STMicroelectronics Italy

Italienische Konzerngesellschaft des schweizerisch-französischen Halbleiterherstellers STMicroelectronics. Entwickelt und fertigt Halbleiterkomponenten für Automobil-, Industrie- und Konsumelektronik.

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