Verfahren zum Herstellen eines Kapazitiven Drucksensors und Kapazitiver Drucksensor
Anmelder: STMicroelectronics S.r.l. 🇮🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4140942
- Aktenzeichen
- EP22190178
- Anmeldetag
- 12. August 2022
- Veröffentlichung
- 4. März 2026
- Erteilung
- 4. März 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B81C1/00
Abstract
Method for manufacturing a micro-electro-mechanical device (30; 30'), comprising the steps of: forming, on a substrate (2), a first protection layer (5) of crystallized aluminum oxide, impermeable to HF; forming, on the first protection layer (5), a sacrificial layer (8, 8') of silicon oxide removable with HF; forming, on the sacrificial layer (8, 8'), a second protection layer (15) of crystallized aluminum oxide; exposing a sacrificial portion (8') of the sacrificial layer (8, 8'); forming, on the sacrificial portion (8'), a first membrane layer (20) of a porous material, permeable to HF; forming a cavity (22) by removing the sacrificial portion (8') through the first membrane layer (20); and sealing pores of the first membrane layer (20) by forming a second membrane layer (24) on the first membrane layer (20).
Anmelder
- Firma
- STMicroelectronics S.r.l.
- Land
- 🇮🇹 Italien
Italienische Konzerngesellschaft des schweizerisch-französischen Halbleiterherstellers STMicroelectronics. Entwickelt und fertigt Halbleiterkomponenten für Automobil-, Industrie- und Konsumelektronik.
2.334 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Studio Torta S.p.A
Studio Torta S.p.A · Treviso