Bildverbesserung für eine Mehrschichtstruktur bei der Inspektion mit Geladenen Teilchenstrahlen

EP4147195 Art A1 15. März 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4147195
Aktenzeichen: EP21724633
Anmeldetag: 6. Mai 2021
Veröffentlichung: 15. März 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G06T5/00G06T5/20G06T5/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

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