Vorrichtung zur Herstellung eines Silizium-Einkristalls und Verfahren zur Unterdrückung von Dislokationen in einem Silizium-Einkristall
EP4148167
Art A1
15. März 2023
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4148167
- Aktenzeichen
- EP22194443
- Anmeldetag
- 7. September 2022
- Veröffentlichung
- 15. März 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B19/04C30B29/36C30B35/00C30B23/02C30B25/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Mewburn Ellis LLP · München