Optisches Element, Euv-Lithographiesystem und Verfahren zum Bilden von Nanopartikeln

EP4150644 Art A1 22. März 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4150644
Aktenzeichen: EP21722416
Anmeldetag: 27. April 2021
Veröffentlichung: 22. März 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G21K1/06G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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