Tiefe Generative Modelle für Optische oder Andere Modusauswahl
EP4154216
Art A1
29. März 2023
Anmelder: KLA Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4154216
- Aktenzeichen
- EP21852637
- Anmeldetag
- 29. Juli 2021
- Veröffentlichung
- 29. März 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G06T7/00G06T7/136G06T11/00G06N3/045G06N3/047G06N3/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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