Oberflächenbehandlungsverfahren für ein Halbleitersubstrat und Oberflächenbehandlungsmittelzusammensetzung
EP4155376
Art A1
29. März 2023
Anmelder: Central Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4155376
- Aktenzeichen
- EP21809701
- Anmeldetag
- 19. Mai 2021
- Veröffentlichung
- 29. März 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/306// H01L21/3105
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Central Glass Company, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München