Optisches Element und Membran für einen Lithographischen Apparat

EP4158423 Art A1 5. April 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4158423
Aktenzeichen: EP21720459
Anmeldetag: 21. April 2021
Veröffentlichung: 5. April 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/62G02B5/20G03F7/20G21K1/06G02B5/08G02B5/09G21K1/10// H01J5/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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