Trockenätzverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterelements und Reinigungsverfahren
EP4159892
Art A1
5. April 2023
Anmelder: Resonac Corporation, Showa Denko K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4159892
- Aktenzeichen
- EP21800974
- Anmeldetag
- 30. April 2021
- Veröffentlichung
- 5. April 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23F1/12H01L21/3065C23C16/44H01L21/3213
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Resonac Corporation
Showa Denko K.K. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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🇯🇵
Showa Denko
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
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