Reinigungsverfahren und Zugehöriges Beleuchtungsquellenmetrologiegerät

EP4170421 Art A1 26. April 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4170421
Aktenzeichen: EP21204494
Anmeldetag: 25. Oktober 2021
Veröffentlichung: 26. April 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G02F1/35G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von