Verfahren zur Korrektur von Out-Of-Band-Lecks und Metrologie-Apparat

EP4170429 Art A1 26. April 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4170429
Aktenzeichen
EP21203532
Anmeldetag
19. Oktober 2021
Veröffentlichung
26. April 2023
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G01N21/956
Offizieller Volltext

Abstract

Disclosed is method of correcting a metrology image for an out-of-band leakage signal contribution resultant from leakage of measurement radiation at suppressed wavelengths. The method comprises: obtaining at least one correction image, said correction image obtained using measurement radiation with all wavelengths or wavelength bands maximally suppressed by a radiation modulation device; obtaining a metrology image using measurement radiation comprising modulated broadband radiation, modulated by the radiation modulation device to obtain a configured spectrum; and using the at least one correction image to correct the metrology image.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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