Optisches Element, Optisches System, Lithographieanlage und Verfahren zum Betreiben eines Optischen Elements
EP4176315
Art B1
19. Juni 2024
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4176315
- Aktenzeichen
- EP21739996
- Anmeldetag
- 1. Juli 2021
- Veröffentlichung
- 19. Juni 2024
- Erteilung
- 19. Juni 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B5/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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