Fotomaskenrohling, Herstellungsverfahren für eine Fotomaske und Fotomaske

EP4180870 Art B1 10. Juli 2024

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4180870
Aktenzeichen: EP22206302
Anmeldetag: 9. November 2022
Veröffentlichung: 10. Juli 2024
Erteilung: 10. Juli 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/24G03F1/26G03F1/58

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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